Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。雙光子聚合技術是近年發(fā)展起來的在利用光的原理上不同于普通光聚合和光交聯(lián)的一種新型的光聚合技術。上海亞微米雙光子聚合3D打印

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設備，可實現(xiàn)在25cm?面積內(nèi)打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。上海新型雙光子聚合三維微納米加工系統(tǒng)事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的。

雙光子聚合激光直寫技術在生物醫(yī)學領域也有著廣泛的應用前景。通過控制激光束的強度和聚焦點的位置，我們可以在生物材料中實現(xiàn)微創(chuàng)傷害，實現(xiàn)精確的細胞操作。這為組織工程等領域的研究提供了新的工具和方法，有望推動醫(yī)學科學的進一步發(fā)展。雙光子聚合激光直寫技術的發(fā)展離不開科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神。他們通過不斷優(yōu)化激光系統(tǒng)、改進材料性能，使得這項技術在實際應用中更加穩(wěn)定和可靠。同時，企業(yè)的支持也為雙光子聚合激光直寫技術的發(fā)展提供了堅實的基礎。展望未來，雙光子聚合激光直寫技術將繼續(xù)推動科技的發(fā)展。我們有理由相信，隨著技術的不斷成熟和應用的不斷拓展，雙光子聚合激光直寫技術將在更多領域展現(xiàn)出其無限的潛力，為人類創(chuàng)造更美好的未來。

雙光子聚合是物質在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程。雙光子吸收是指物質的一個分子同時吸收兩個光子的過程，只能在強激光作用下發(fā)生，是一種強激光下光與物質相互作用的現(xiàn)象，屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產(chǎn)生的特別強激光的焦點處，光路上其他地方的激光強度不足以產(chǎn)生雙光子吸收，而由于所用光波長較長，能量較低，相應的單光子過程不能發(fā)生，因此，雙光子過程具有良好的空間選擇性。雙光子聚合利用了雙光子吸收過程對材料穿透性好、空間選擇性高的特點，在三維微加工、高密度光儲存及生物**領域有著巨大的應用前景，近年來已成為全球高新技術領域的一大研究熱點想要了解雙光子聚合技術運用在哪些領域請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。雙光子聚合技術在3D精密加工上具有很大的潛力。上海亞微米級雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術，實現(xiàn)微流道母版制造和密閉通道系統(tǒng)內(nèi)部的芯片內(nèi)直接打印。上海亞微米雙光子聚合3D打印

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請**。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向導，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如，可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行，以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱，QuantumX在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復雜的光學形狀，具有可變的特征高度上海亞微米雙光子聚合3D打印