光學(xué)平臺的平面度在使用時，實際意義不大。我們以完全平整的臺面（實際上是不可能的）來看，若長×寬×厚為：2000×1000×200mm，通常調(diào)整水平時，水平儀的小刻度為±30′，若假設(shè)實際過程中，水平方向調(diào)整精度若為5′，長度方向取2000mm，那么，臺面長度方向兩端的高度差=2000×tan（5′）2.9mm，也就是說，就算完全平整的臺面，調(diào)整水平后，臺面長度方向兩端的高度差很有可能達(dá)到3mm，所以實際使用情況中，平面度的指標(biāo)意義不大。上海勤確科技有限公司以創(chuàng)百年企業(yè)、樹百年品牌為使命，傾力為客戶創(chuàng)造更大利益！上海Newport光學(xué)平臺支架

夾心光學(xué)平板主要是由帶磁不銹鋼(不銹鐵)及填充材料組成(目前使用Z多的填充材料是蜂窩巢結(jié)構(gòu)材料及型鋼框架結(jié)構(gòu))。特點是:固有頻率低，吸振性能強。光學(xué)平臺支架按其隔振形式主要分為:機械式隔振支架與氣墊式隔振支架。機械式隔振支架主要是利用各種隔振材料(如:減震彈簧、隔振橡膠等)將主動或被動震源盡量阻隔，使其盡可能少地傳遞到光學(xué)平臺上。特點是造價相對便宜，使用和維護方便。缺點是只能用于環(huán)境震動相對較好的場合。上海勤確科技有限公司。上海儀器架光學(xué)平臺配件臺面上布滿成正方形排列的工程螺紋孔，用這些孔和相應(yīng)的螺絲可以固定光學(xué)元件。

臺面上布滿成正方形排列的工程螺紋孔，用這些孔和相應(yīng)的螺絲可以固定光學(xué)元件。當(dāng)你完成光學(xué)設(shè)備的搭建，系統(tǒng)基本不會受外來擾動而產(chǎn)生變化。即使按動臺面，它也會因為氣囊而自動回復(fù)水平。這里介紹一下我們常用的光學(xué)平臺的主要構(gòu)成，標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)平臺基本組件包括：1、頂板；2、底板；3、側(cè)面精加工貼臉；4、側(cè)板；5、蜂窩芯；6、密封杯等。主要配件：支撐架光學(xué)平臺包括剛性、無隔振支撐架，被動式隔振支撐架，主動式自動調(diào)平支撐架。

選購光學(xué)平臺時要注意以下幾點事項：①隨著眾多研究機構(gòu)對質(zhì)量要求的不斷提高和廠商對產(chǎn)品的不斷完善，目前所研制出來的款型繁多，質(zhì)量也參差不齊，所以在購買前，首先要對企業(yè)進行一定的了解，比如企業(yè)的性質(zhì)了解、綜合能力的了解、質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)、制造標(biāo)準(zhǔn)、工藝路線、售后服務(wù)能務(wù)和態(tài)度等。其次是對它的了解。比如它的材料、加工的精度、隔振效果、產(chǎn)品整體的合理性，平臺表面是否精細(xì)、表面處理的工藝性等。②不要過于看重產(chǎn)品一兩項參數(shù)，應(yīng)該對整體進行了解，并進行一定檢驗。例如重要參數(shù)如平面度、平臺不平度、固有頻率、振幅、工作壓力和**大負(fù)載等參數(shù)都要有個詳細(xì)的了解并對其進行檢測。這樣才可以根據(jù)一些重要參數(shù)來選擇自己想要購買的產(chǎn)品光學(xué)平臺相對運動產(chǎn)生于桌面上搭建的設(shè)備、空氣調(diào)節(jié)(HVAC)系統(tǒng)以及其他聲音來源。

平臺和面包板設(shè)計還可以采用大半徑圓角，這樣能減少實驗室中的尖銳邊緣，提高**性。光學(xué)平臺包括剛性、無隔振支撐架，被動式隔振支撐架，主動式自動調(diào)平支撐架。光學(xué)平臺其他配件還包括貨架、安裝座、桌下擱板、振動隔離配件、可安裝支桿的光學(xué)平臺配件、可調(diào)式光學(xué)爬升架安裝座、地震壓制、光學(xué)面包板罩殼、遮光材料、磁性薄片等等。這些平臺經(jīng)過改善的表面拋光處理后，表面平整度在1平方米（11平方英尺）內(nèi)可達(dá)±0.1毫米（±0.004英寸），為安裝部件提供了接觸表面，不需要使用磨具對頂面進行打磨。氣浮式平臺的重復(fù)定位精度一般為亞毫米量級。上海精密隔振光學(xué)平臺支架

光學(xué)平臺重要的作用是提供動態(tài)剛度。上海Newport光學(xué)平臺支架

光學(xué)平臺平面度，對于隔振性能，沒有任何影響，甚至若為了追求高平面度，往往會去除掉光學(xué)平臺的隔振性能，原因如下：我們知道，光學(xué)平臺臺面，若為達(dá)到高平面度，通常需要反復(fù)磨削，在加工過程中，多次磨削容易使材料產(chǎn)生形變，為了減少形變，通常要加厚臺面，但我們通過振動恢復(fù)時間的說明已經(jīng)知道，臺面加厚質(zhì)量增加，平臺的振動恢復(fù)時間往往成倍（甚至幾倍）增加，在很多精密光學(xué)實驗中，這是不可接受的；光學(xué)平臺的磨削是有極限的，這個加工的極限一般是在±0.01mm/600mm×600mm左右，換算成平方米大約為：±0.03mm/m2，但這個平面度，同大理石平臺的平面度相差甚遠(yuǎn)。上海Newport光學(xué)平臺支架